Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器

簡要描述：Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見工藝金屬（如金、銀和鉻）時提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周圍環(huán)境的熱負荷極小。

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Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見工藝金屬（如金、銀和鉻）時提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周圍環(huán)境的熱負荷極小。

Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器

這種技術利用電子束直接蒸發(fā)棒狀材料，或者通過加熱偏置坩堝間接蒸發(fā)材料。當從坩堝蒸發(fā)時，部分準直的電子束在材料利用率方面比傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)器或熱舟源更具優(yōu)勢，尤其是在處理昂貴材料時。

主動冷卻的銅頭設計使得在運行過程中幾乎不產生放氣，而封閉的蒸發(fā)槽可以吸收大部分輻射熱，從而進一步降低對基底的熱負荷。Evap-4非常適合在溫度敏感的基底上沉積精確的薄膜涂層。Evap-4配備了通量板，用于測量源材料發(fā)出的離子通量，并提供沉積速率的獨立測量。

Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器可在一個單元內控制多達4個蒸發(fā)槽，并提供兩種控制模式：

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